Установка вакуумного напыления PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD была построена в 2022 году в Польше.Технические характеристики установки для PVD-напыления GALACTIC GAVA 500 CAPVDПЛК-контроллер:...
ННВ-6.6-И1 установка для напыления 2001 г.в.
Установка ионно-плазменная камерная вакуумная ННВ-6.6-И1 предназначена для нанесения упрочняющих однослойных и многослойных покрытий на инструмент широкой номенклатуры диаметром до 200 мм и длиной до 250 мм способом конденсации вещества с ионной бомбардировкой.
Установка может использоваться при напылении коронок зубов, а также при декоративном напылении на изделиях из стекла и металла, фарфора и пластмассы. для нанесения упрочняющих покрытий на инструмент, а также декоративных покрытий состоящие из оксидов, карбидов, нитридов тугоплавких соединений с металлами (титаном, цирконием, хромом, алюминием и др.)
Структура условного обозначения
ННВ-6.6-И1:
Н - метод нагрева - ионный;
Н - основной конструктивный признак - камерная;
В - среда в рабочем пространстве - вакуум;
6 - диаметр рабочей камеры, дм;
6 - высота рабочей камеры, дм;
И1 - порядковый номер исполнения.
Условия эксплуатации
Высота над уровнем моря не более 1000 м.
Температура окружающего воздуха от 10 до 35°С.
Относительная влажность воздуха до 80 % при температуре 20°С и не более 50 % при температуре 35°С.
окружающая среда невзрывоопасна, не содержит агрессивные газы и пары в концентрациях, вредно действующих на металлы и изоляцию, а также токопроводящую пыль; атмосферное давление от 96,0 до 104,0 кПа (720 - 780 мм рт. ст.).
Технические характеристики
Потребляемая мощность, кВт - 50+5
Напряжение питающей сети, В - 380+19/220+11
Число фаз - 3
Частота тока, Гц - 50
Скорость осаждения покрытия (нитрида титана), мкм/ч - от 13 до 40
Номинальный ток высоковольтного источника питания подложки, А - 20
Диапазон плавного регулирования величины напряжения высоковольтного источника питания подложки, В - от 100 до 1500
Диапазон плавного регулирования величины напряжения низковольтного источника питания подложки, В - от 20 до 280
Максимальная нагрузка на шпиндель, кг - 110
Максимально допустимая нагрузка на ось сателлита механизма вращения, кг - 10
Диапазон плавного регулирования частоты вращения стола (в обе стороны), мин-1 - от 0,5 до 12
Длительность цикла упрочнения инструмента, ч - от 2 до 2,5
Размеры рабочей камеры, мм: диаметр - 600+30
высота (длина) - 600-20
Количество электродов токоподводящих (испарителей) - 3
Остаточное давление в камере, Па (мм рт.ст.) - от 6,65·10-3 до 6,65·10-1 (от 5·10-5 до 5·10-3)
Расход охлаждающей воды, м3/ч, не более - 2
Масса установки, т - 3,0
Установка вакуумного напыления PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD была построена в 2022 году в Польше.Технические характеристики установки для PVD-напыления GALACTIC GAVA 500 CAPVDПЛК-контроллер:...
Установка вакуумного напыления PVD KOLZER DGK36″ была построена в 2017 году.Технические характеристики установки для PVD-напыления KOLZER DGK36″размеры рабочей камеры (диам. х д.) : ⌀ 1000 мм х...
Установка вакуумного напыления PVD UF 150070301 MD была построена в 2015 году в Китае компанией LONGKOU BITE VACCUM TECHNOLOGY CO., LTD. Также за дополнительную плату можно приобрести новые...
Установка финишного напыления обеспечивает двустороннее равномерное распыление жидких водорастворимых компонентов по всей поверхности слоя продукта. Возможность ввода нескольких компонентов...
ООО «ТандемАгро»Чтобы пожаловаться на объявление, войдите в аккаунт или зарегистрируйтесь. Это помогает нам бороться с фальшивыми жалобами и быстрее реагировать.